曝光机

简介

曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备。

组成机构：

UV灯构造

带托盘的晶片工作台

配CCD镜头的显微镜

监视器

掩膜夹具

UV灯透镜

UV灯镜片

UV灯电源系统

操作控制器

350W UV灯

晶片台

基底尺寸 标准尺寸 最大至4英寸；可选最大至6英寸；

托盘 标准尺寸 最大至4英寸；可选最大至6英寸；

活动范围：X：10mm Y： 10mm Z ： 10mm Theta： 4 degree

挤入补偿 Air bearing型

Z轴滑动 手动

真空泵 无油真空泵

掩膜台

掩膜夹具类型 真空吸附和机械夹取

均匀光束大小 4.25“ X 4.25“

支持接近式曝光，各种接触式（真空接触、软接触、硬接触等）曝光

接触式曝光特征尺寸：

0.35 um@深紫外DUV：

0.5um@近紫外NUV；

0.6um@紫外UV；

接近式曝光特征尺寸：

1um @ Gap为20 um；

2um @ Gap为50 um；

用途

更广范围（UV，DUV，NUV）的紫外光波长选择，出射光强范围: 8mW/cm2~40mW/cm2

支持恒定光强或恒定功率模式

广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领。

常见曝光机举例：MYCRO美国制造的恩科优（N&Q）紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。NXQ400-6系统成功地应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用。